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HCID 3062438生成日期:2026年10月23日

4-硝基苯基-1,3-二甲酸

4-硝基间苯二甲酸 · 4-硝基异邻苯二甲酸 · 4-硝基异PHATH醛IC酸 · 4-硝基苯基-1,3-二羧酸 · 4-硝基苯基-1,3-二甲酸 · 4-nitrobenzene-1,3-dicarboxylic acid · 4-Nitroisophthalicaci · 4-Nitroisophthalic aid

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4-硝基苯基-1,3-二甲酸 分子结构式

标识与物理属性

CAS No.4315-09-7
分子式C8H5NO6
平均分子量211.13 g/mol
单同位素质量211.01168688 g/mol
SMILESO=C(O)c1ccc([N+](=O)[O-])c(C(=O)O)c1
InChIKeyOCJFXVHDIVAONP-UHFFFAOYSA-N
PubChem CID3062438
EC No.610-110-6
DTXSIDDTXSID20388913
中文名4-硝基苯基-1,3-二甲酸

化学与物理性质

XLogP1
极性表面积120
氢键供体2
氢键受体6
可旋转键2
重原子15
形式电荷0
复杂度296
熔点258-259°C
沸点492.9±40.0 °C(Predicted)
密度1.671±0.06 g/cm3(Predicted)
储存条件Sealed in dry,Room Temperature
pKa(酸度系数)1.86±0.25(Predicted)
外观White to yellow Solid
InChIInChI=1S/C8H5NO6/c10-7(11)4-1-2-6(9(14)15)5(3-4)8(12)13/h1-3H,(H,10,11)(H,12,13)
InChIKeyOCJFXVHDIVAONP-UHFFFAOYSA-N
SMILESC1(C(O)=O)=CC=C([N+]([O-])=O)C(C(O)=O)=C1

安全与法规

GHS 分类WarningH315 (100%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]H319 (100%): Causes serious eye irritation [Warning Serious eye damage/eye irritation]H335 (100%): May cause respiratory irritation [Warning Specific target organ toxicity, single exposureRespiratory tract irritation]P261, P264, P264+P265, P271, P280, P302+P352, P304+P340, P305+P351+P338, P319, P321, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P403+P233, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)The GHS information provided by 1 company from 1 notification to the ECHA C&L Inventory.
Hazard Classes and CategoriesSkin Irrit. 2 (100%)Eye Irrit. 2A (100%)STOT SE 3 (100%)
危险类别IRRITANT
安全说明(S)26-36/37/39-36
海关编码29173990
危险类别码(R)36/37/38

制备与合成方法

生产方法

以1,3-二甲基-4-硝基苯为原料合成4-硝基间苯二甲酸的一般步骤如下:参照实施例103,将1,3-二甲基-4-硝基苯(10.0 g,66.2 mmol)溶解于吡啶(65.0 mL)和水(130 mL)的混合溶剂中,随后分批加入高锰酸钾(62.7 g,0.397 mol)。将反应混合物在室温下搅拌30分钟。反应完成后,对反应混合物进行过滤,滤液经减压蒸馏浓缩。将残余物用1N盐酸酸化,随后用乙酸乙酯进行萃取。萃取液经水洗并用无水硫酸镁干燥后,通过减压蒸馏除去溶剂,得到4-硝基间苯二甲酸(12.4 g,收率89%)为黄色晶体。所得产物无需进一步纯化即可直接用于后续反应。参考文献:[1] Patent: US6407116, 2002, B1[2] Organic Letters, 2010, vol. 12, # 21, p. 4944 - 4947[3] Patent: CN108164469, 2018, A. Location in patent: Paragraph 0094; 0095[4] Tetrahedron, 1989, vol. 45, # 5, p. 1311 - 1322[5] Patent: CN105384687, 2016, A. Location in patent: Paragraph 0394; 0395; 0396; 0397; 0398