三氧化二硼

急性毒性口服-小鼠 LD50: 3163 毫克/公斤; 腹腔-小鼠LD50: 1868 毫克/公斤

刺激数据皮肤-兔 1000 毫克; 眼睛-兔 50 毫克

职业标准TWA 10 毫克/立方米 (尘); TWA 10 毫克/立方米

可燃性危险特性与氧化钙混合, 或直接放入石灰乳中混合物发热至白炽化

储运特性库房通风低温干燥; 与石灰分开存放

灭火剂水,干粉、二氧化碳

概述氧化硼亦称“硼酸酐”。化学式B2O3，溶于热水，冷水中仅微热溶解。在水中形成正硼酸。在热的水蒸气中形成可挥发的偏硼酸。熔融状态下，可溶解多种金属氧化物，得到有色的硼玻璃。碱金属以及镁、铝能使之还原为单质硼。要得到高纯氧化硼，必须先制备出高纯硼酸，高纯硼酸的制备方法主要有重结晶法、离子交换法、络合法、酯化-水解法以及膜分离法、电化学方法、吸附法等。

应用氧化硼可广泛用作硅酸盐分解时的助熔剂、半导体材料的掺杂剂、有机合成中的酸性催化剂、油漆的耐火添加剂及制取元素硼和多种硼化物的原料等，高纯氧化硼（≥99.999%）则是制造Ⅲ~Ⅴ族化合物半导体（如砷化镓、磷化镓、砷化铟）时的液封剂。近年来随着LED行业的迅速发展，其衬底材料砷化镓的产量越来越大，对高纯氧化硼的需求也随之增加。

用途用作硅酸盐分解时的助熔剂，半导体材料的掺杂剂，耐热玻璃器皿和油漆耐火添加剂。是制取元素硼和各种硼化合物的原料。在冶金工业上用于合金钢的生产。可用作有机合成的催化剂，高温用润滑剂的添加剂以及化学试剂等。

用途用作助熔剂，还用于玻璃、搪瓷、制造硼化合物原料及彩色电视机工业 用作半导体硅的掺杂源和硅酸盐分解时的助熔剂，还可用于硼的制造

用途冶金，硅酸盐分析中测定二氧化硅和碱。吹管分析。分解硅酸盐的助熔剂。

用途电子工业：三氧化二硼是制造半导体和液晶显示器（LCD）的关键材料之一。它被用作掺杂剂，帮助调节硅片的导电性能。此外，它还用于制造光纤，确保信号传输的稳定性和高效性。 玻璃与陶瓷工业： 在玻璃制造中，三氧化二硼可以显著提高玻璃的耐热性和化学稳定性。比如，实验室常用的耐热玻璃（如Pyrex）就含有三氧化二硼。在陶瓷工业中，它则用于降低釉料的熔点，提升陶瓷的强度和光泽。阻燃材料：三氧化二硼是许多阻燃剂的重要成分。它能在高温下形成保护层，阻止火焰蔓延，广泛应用于建筑材料、纺织品和塑料制品中。核工业：在核反应堆中，三氧化二硼被用作中子吸收剂，帮助控制核反应的速度，确保反应堆的安全运行。

制备步骤1：高纯硼酸的制备 1）重结晶。将360g工业硼酸置于2000mL反应瓶中，加入1400mL纯水，加热搅拌溶解，再加入3%（质量分数）的双氧水。反应回流1h，趁热过滤，冷却结晶，过滤，将物料于60℃下干燥。 2）酯化硼酸。将180g重结晶的工业硼酸置于2000mL反应瓶中，分别加入1500mL无水甲醇（物质的量比为1∶12）和几滴醋酸，搅拌的同时边加热，恒温回流反应1h。控制温度以蒸出硼酸甲酯为主要成分的共沸物，收集蒸馏温度为40～60℃的共沸物。当蒸气温度达到60℃以上时，换接收瓶，回收甲醇，蒸至瓶中出现少量固体时停止加热，冷却瓶底液，过滤，回收硼酸。 3）水解硼酸酯化物。将40～60℃的共沸物放入烧瓶中，再加入占共沸物体积80%的高纯水，水解回流1h，蒸出甲醇。冷却结晶，过滤，干燥后得到高纯硼酸。 步骤2：氧化硼煅烧 将高纯硼酸置于铂金坩埚中，依次于200℃下煅烧0.5h、900℃下煅烧1h、800℃下真空煅烧1h，在真空下随炉冷却后快速取出，真空包装。

生产方法常压法将硼酸送人加热釜内，升温，硼酸徐徐脱水。当温度升到107.5℃时变为偏硼酸(HBO2)，升温到150～160℃时转变为四硼酸(H2B4O7)，650℃以上则熔体产生大量泡沫，最终将温度保持在800～1000℃，灼烧脱水到物料呈红色并不再鼓泡为止。熔料相对密度为1.52。这时开启抽丝机进行抽丝，温度控制在700～900℃。然后将抽丝机上的氧化硼丝用退切机切断，包装，得氧化硼成品。其2H3BO3→B2O3+3H2O真空法将硼酸置于不锈钢盘中，放人烘箱内先烘1.5 h，再升温至150℃，加热4 h。加热过程中要经常翻动，使其脱水均匀。接着将物料移出，冷却，粉碎，然后置于真空烘箱中，保持密封，在220℃下加热1.5 h，再升温至260℃，并加热4 h。再将物料冷却、粉碎，放入管式炉中，加热温度控制在280℃，在真空下脱水4h，制得氧化硼产品。其2H3BO3→B2O3+3H2O