94817-79-5CCC(C)NCC(O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)FPBRMQLWBNAZWRE-UHFFFAOYSA-N94817-79-5DTXSID50895948PFAS -> OECD Category
PFAS -> non-polymer
PFAS -> Fluorotelomer based substances
PFAS -> Other/unspecified
• Etching compositions for fabrication of semiconductor devices [Ref: CAS2019 (JP59056482)]
non-polymer PFAS -> Semiconductor Industry -> Etching the SiO2 coating of the semiconductor device
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