Grundinformationen
- Standard-SMILES
Clc1cccc2[nH]nnc12- InChIKey
NGKNMHFWZMHABQ-UHFFFAOYSA-N- Summenformel
- C6H4ClN3
- Durchschnittliche Molmasse
- 153,57 g/mol
- Monoisotopische Masse
- 153,0093748
Namen und Bezeichner
- Bevorzugter Name
- 4-chloro-1H-1,2,3-benzotriazole
- IUPAC
- 4-chloro-2H-benzotriazole
- Englischer Name
- 7-chloro-1H-benzo[d][1,2,3]triazole
- Summenformel
- C6H4ClN3
- Molmasse
- 153.57
Namen und Synonyme
Weitere Namen anzeigen
Datenbank-Bezeichner
- CAS
30675-48-0、67130-04-5- PubChem CID
- 21707868
Eigenschaften
Berechnete Struktureigenschaften
- XLogP
- 1,7
- Polarare Oberfläche (TPSA)
- 41,6 Ų
- H-Brücken-Donoren
- 1
- H-Brücken-Akzeptoren
- 2
- Frei drehbare Bindungen
- 0
- Schwere Atome
- 10
- Formalladung
- 0
- Komplexität
- 130
Physikochemische Eigenschaften
- Schmelzpunkt
- 160 °C · 160 °C
- Siedepunkt
- 392.7 · 392.7±15.0 °C(Predicted)
- Dichte
- 1.531 · 1.531±0.06 g/cm3(Predicted)
- storage temp.
- Sealed in dry,Room Temperature
- pka
- 7.48 · 7.48±0.40(Predicted)
Sicherheit und Regulatorisches
GHS-Klassifizierung
GHS Classification
Warning
H302 (100%): Harmful if swallowed [Warning Acute toxicity, oral];H315 (100%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation];H319 (100%): Causes serious eye irritation [Warning Serious eye damage/eye irritation];H335 (100%): May cause respiratory irritation [Warning Specific target organ toxicity, single exposure; Respiratory tract irritation]
P261, P264, P264+P265, P270, P271, P280, P301+P317, P302+P352, P304+P340, P305+P351+P338, P319, P321, P330, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P403+P233, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)
The GHS information provided by 1 company from 1 notification to the ECHA C&L Inventory.
Gefahrenhinweise
Sicherheitsdaten
- Alarmwort
- Warnung
- Gefahrenhinweise
- Code Gefahrenhinweise Gefahrenklasse Abteilung Alarmwort Symbol P-Code H302
Chemie und Industrie
Anwendungen
Verwenden4-Chlorobenzotriazole is cleaning compound. It has cleaning formulation with redox agent and chelating agent and corrosion inhibitor for removing residues on surfaces semiconductor substrate.
Anbieter18 Anbieter
Zugehörige Reaktionen
Verknüpfte Notizen
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