1-Ethoxyethyl Methacrylate (stabilized with MEHQ)

HCID 20193345CAS 51920-52-6

Grundinformationen

Standard-SMILES
C=C(C)C(=O)OC(C)OCC
InChIKey
HVBADOTWUFBZMF-UHFFFAOYSA-N
Summenformel
C8H14O3
Durchschnittliche Molmasse
158,19 g/mol
Monoisotopische Masse
158,09429431

Namen und Bezeichner

Bevorzugter Name
1-Ethoxyethyl Methacrylate (stabilized with MEHQ)
IUPAC
1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate
Englischer Name
2-Propenoic acid, 2-methyl-, 1-ethoxyethyl ester
Summenformel
C8H14O3
Molmasse
158.2

Namen und Synonyme

1-Ethoxyethyl Methacrylate (stabiliZed with MEHQ)RefChem:432261890-694-91-ethoxyethyl methacrylate51920-52-61-Ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate2-Propenoic acid, 2-methyl-, 1-ethoxyethyl esterstarbld00080021-ethoxyethylmethacrylateSCHEMBL361001-(ethoxy)ethyl methacrylate2-Ethoxy-2-ethyl Methacrylate
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DK7991-Ethanol-ethanol methacrylate1-ethoxyethyl2-methylprop-2-enoate51920-52-6 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 1-ethoxyethyl ester
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Datenbank-Bezeichner

CAS
51920-52-6
PubChem CID
20193345
DTXSID
DTXSID90603387
EC Number
890-694-9
Nikkaji
J981.828F

Eigenschaften

Berechnete Struktureigenschaften

XLogP
2,2
Polarare Oberfläche (TPSA)
35,5 Ų
H-Brücken-Donoren
0
H-Brücken-Akzeptoren
3
Frei drehbare Bindungen
5
Schwere Atome
11

Physikochemische Eigenschaften

Siedepunkt
180.5 · 180.5±23.0 °C(Predicted)
Dichte
0.954 · 0.954±0.06 g/cm3(Predicted)
InChI
InChI=1S/C8H14O3/c1-5-10-7(4)11-8(9)6(2)3/h7H,2,5H2,1,3-4H3
InChIKey
HVBADOTWUFBZMF-UHFFFAOYSA-N
SMILES
C(OC(OCC)C)(=O)C(C)=C

Sicherheit und Regulatorisches

GHS-Klassifizierung

GHS Classification · 4 Einträge

Warning

H315 (100%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]

P264, P264+P265, P280, P302+P352, P305+P351+P338, P321, P332+P317, P337+P317, and P362+P364 (click each P-code to see the statement)

The GHS information provided by 1 company from 1 notification to the ECHA C&L Inventory.

Gefahrenhinweise

Hazard Classes and CategoriesSkin Irrit. 2 (100%)

Chemie und Industrie

Anwendungen

Verwenden2-Propenoic acid, 2-methyl-, 1-ethoxyethyl ester is used as a photoresist monomer.

Anbieter36 Anbieter

Career Henan Chemica Co+86-0371-86658258 +86-13203830695 · [email protected]
上海大然化学有限公司021-64478606 · [email protected]
湖北长耀生物科技有限公司17683887209 17683887209 · [email protected]
上海忝晴化工有限公司+8613816254020 · [email protected]
Shanghai Hongzhixin Chemical Technology Co., Ltd+86-021-58209276 +8613817242608 · [email protected]

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