Di(t-butylamino)silane
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Grundinformationen
- CAS
186598-40-3- Standard-SMILES
CC(C)(C)N[Si]NC(C)(C)C- Summenformel
- C8H22N2Si
- Durchschnittliche Molmasse
- 174,36 g/mol
Namen und Bezeichner
- Bevorzugter Name
- Di(t-butylamino)silane
- Englischer Name
- Di(t-butylamino)silane
- Summenformel
- C8H22N2Si
- Molmasse
- 174.36
Namen und Synonyme
BIS(T-BUTYLAMINO)SILANEBis(tert-butylamino)silaneBTBAS (99.999% - Si)BTBAS: [NH(C4H9)]2SiH2Di(t-butylamino)silaneDI-(TERT-BUTYLAMINO)SILANEBis(t-butylamino)silane BTBASN,N'-Di-tert-butylsilanediamineHigh Purity Di(t-butylamino)silaneBis(t-butylaMino)silane, 97+% BTBAS
Datenbank-Bezeichner
- CAS
186598-40-3- PubChem CID
- 21904012
- EC Number
- 631-589-8
- Nikkaji
- J1.295.638J
Eigenschaften
Physikochemische Eigenschaften
- Siedepunkt
- 167 °C · 167°C
- Dichte
- 0 · 0,816 g/cm3
- Brechungsindex
- 1.4236 · 1.4236
- Flammpunkt
- 30 °C · 30°C
- pka
- 11.91 · 11.91±0.70(Predicted)
- Aggregatzustand
- liquid
- Farbe
- colorless
- Wichte
- 0.816 · 0.816
- EPA chemische Informationen
- Silanediamine, N,N'-bis(1,1-dimethylethyl)- (186598-40-3)
Sicherheit und Regulatorisches
Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
Sicherheitsdaten
- tsca
- TSCA listed
Chemie und Industrie
Anwendungen
VerwendenBis(t-butylamino)silane is a useful reagent, catalyst, and precursor. It is applicated in thin film deposition. Aminosilanes are the best choice as Si source for the deposition of hafnium silicates (HfSiO) and hafnium silicon oxynitrides (HfSiON).
Vor- und nachgelagerte Produkte
Vorgelagerte Rohstoffe
Zugehörige Reaktionen
0
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Notizen zur Verbindung
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