Iodonium, bis[4-(1,1-dimethylethyl)phenyl]-, 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate (1:1)
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Grundinformationen
- CAS
229325-98-8- Standard-SMILES
CC(C)(C)c1ccc([I+]c2ccc(C(C)(C)C)cc2)cc1.O=S(=O)([O-])c1ccccc1C(F)(F)F- InChIKey
ILYGGWOGJKVSLD-UHFFFAOYSA-M- Summenformel
- C27H30F3IO3S
- Durchschnittliche Molmasse
- 618,499 g/mol
- Monoisotopische Masse
- 618,09124848
Namen und Bezeichner
- Bevorzugter Name
- Iodonium, bis[4-(1,1-dimethylethyl)phenyl]-, 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate (1:1)
- Englischer Name
- di(4-t-butyl)phenyliodonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate
- Summenformel
- C34H36F6I2O6S2
- Molmasse
- 972.5753992
Namen und Synonyme
di(4-t-butyl)phenryliodonium2-trifluoromethylbenzenesulfonatedi(4-t-butyl)phenyliodonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonatebis(4-t-butylphenyl)iodonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonateBis-(4-tert-butylphenyl)-iodonium trifluoromethylbenzenesulfonateDi(4-tert-butylphenyl)iodonium 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonatebis(4-(tert-butyl)phenyl)iodonium 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
Datenbank-Bezeichner
- CAS
229325-98-8- PubChem CID
- 21930786
- DTXSID
DTXSID201385534- EC Number
- 682-856-0
Eigenschaften
Physikochemische Eigenschaften
- InChI
- InChI=1S/2C10H14I.2C7H5F3O3S/c2*1-10(2,3)8-4-6-9(11)7-5-8;2*8-7(9,10)5-3-1-2-4-6(5)14(11,12)13/h2*4-7,11H,1-3H3;2*1-4H,(H,11,12,13)/q2*+1;;/p-2
- InChIKey
- KBNDOWQCVDZIOP-UHFFFAOYSA-L
- SMILES
- [IH+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1.[IH+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1.C1(S([O-])(=O)=O)=CC=CC=C1C(F)(F)F.C1(S([O-])(=O)=O)=CC=CC=C1C(F)(F)F
Sicherheit und Regulatorisches
Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
Sicherheitsdaten
- Alarmwort
- Achtung
- Gefahrenhinweise
- Code Gefahrenhinweise Gefahrenklasse Abteilung Alarmwort Symbol P-Code H314
Chemie und Industrie
Anwendungen
VerwendenBis(4-(tert-butyl)phenyl)iodonium 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate is a sulfonate compound that can be used as a photoacid generator (PAG) component in the preparation of EUV patterning photoresists.
Anbieter32 Anbieter
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