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220140-29-4CCCC12N(COC)C(=O)N(COC)C1(C)N(COC)C(=O)N2COCFPLHXUPONQTGOH-UHFFFAOYSA-N220140-29-4Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
VerwendenImidazo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione,-tetrahydro-1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)-3a-methyl-6a-propyl can be used as a resist undercoat film composition in semiconductor lithography processes.
Keine Reaktionsaufzeichnungen unter den aktuellen Filterkriterien.
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