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18166-43-3CC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)CHLDBBQREZCVBMA-UHFFFAOYSA-N18166-43-3DTXSID30311474Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
VerwendenTris(tert-alkoxy)silanols reacts with tetrakis(dimethylamino)-hafnium vapor(Hf(N(CH3)2)4) for vapor phase deposition of hafnium silicate glass films. Tris(tert-butoxy)silanol is used for atomic layer deposition (ALD) of highly conformal layers of amorphous silicon dioxide and aluminum oxide nanolaminates.
Keine Reaktionsaufzeichnungen unter den aktuellen Filterkriterien.
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