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205131-81-3C=CC[Si]12O[Si]3(C4CCCC4)O[Si]4(C5CCCC5)O[Si](C5CCCC5)(O1)O[Si]1(C5CCCC5)O[Si](C5CCCC5)(O2)O[Si](C2CCCC2)(O3)O[Si](C2CCCC2)(O4)O1WPWQPIMCUOEXGC-UHFFFAOYSA-N205131-81-3DTXSID90402493Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
VerwendenPolyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) monomer, useful as model for silica surfaces, and for the formation of novel polymeric materials.
Keine Reaktionsaufzeichnungen unter den aktuellen Filterkriterien.
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