2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxane
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Grundinformationen
- CAS
2370-88-9- Standard-SMILES
C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1- Summenformel
- C4H16O4Si4
- Durchschnittliche Molmasse
- 240,51 g/mol
Namen und Bezeichner
- Bevorzugter Name
- 2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxane
- Englischer Name
- 2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxane
- Summenformel
- C4H16O4Si4
- Molmasse
- 240.51
Namen und Synonyme
D4HTMCTS1,3,5,7-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANETetramethylcyclotetrasiloxane2,4,6,8-Tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocaneH-4H4RHH4RDK690SP9144
Datenbank-Bezeichner
- CAS
2370-88-9- PubChem CID
- 6327421
- Nikkaji
- J213.228A、J3.240.875C
Eigenschaften
Physikochemische Eigenschaften
- Schmelzpunkt
- 69 °C · −69 °C (lit.)
- Siedepunkt
- 134 °C · 134 °C
- Dichte
- 0.99 · 0.99
- Dampfdruck
- 0.05 · 0.05-479Pa at 20℃
- Brechungsindex
- 1.39 · 1.39
- Flammpunkt
- 24 °C · 24 °C
- storage temp.
- 2 · 2-8°C
- Aggregatzustand
- clear liquid
- Farbe
- Colorless to Almost colorless
- Wichte
- 0.991 · 0.991
- Wasserlöslichkeit
- Miscible with most organic solvents. Immiscible with water.
- BRN
- 1787074 · 1787074
- InChI
- 1S/C4H16O4Si4/c1-9-5-10(2)7-12(4)8-11(3)6-9/h9-12H,1-4H3
- InChIKey
- BQYPERTZJDZBIR-UHFFFAOYSA-N
- SMILES
- C[SiH]1O[SiH](C)O[SiH](C)O[SiH](C)O1
- LogP
- -2.4 · -2.4-5.54 at 25℃
- CAS Datenbank
- 2370 · 2370-88-9(CAS DataBase Reference)
- EPA chemische Informationen
- 2 · Cyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl- (2370-88-9)
Sicherheit und Regulatorisches
Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
Sicherheitsdaten
- F
- 10-21
- wgk
- 3
- tsca
- TSCA listed
- ridadr
- UN 1993 3/PG 3
- hs_code
- 29319090
- risk_code
- 10-36
- hazard_code
- Xi
- safety_code
- 16-26-36
- hazard_class
- 3
- packing_group
- III
- Speicherklasse
- 3 - Flammable liquids
- Hazard Classifications
- Flam. Liq. 3
Chemie und Industrie
Anwendungen
Beschreibung2, 4, 6, 8-TETRAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE can be used as the precursor for the deposition of polysiloxane, cyclic siloxane, silicon dioxide, and gate dielectrics in thin-film transistors (TFT) (for example, for the preparation of ultralow dielectric constant pSiCOH film), and is a component of photochemically formed SiOX monolayers on TiO. It is a good impregnant of photoelectric material. It can be used for the manufacturing of modified siloxane with defined hydrogen content and chain quality.
Verwenden2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxane can occur addition reaction with unsaturated alkenes, so it’s utilized widely to synthesize variety functional reactive silicone fluids which is used to form silicone block copolymer, or used as crosslinker of vinyl addition silicone rubber. Tetramethyl-cyclotetrasiloxane is a good impregnant of photoelectric material. It is used to manufacture of modified siloxane with defined hydrogen content and chain quantity. It is also used in production of silicone polymers and acts as a precursor for the deposition of polysiloxane, cyclic siloxane, silicon dioxide, oxycarbide thin films with low dielectric constant for microelectronics and semiconductors.
Vor- und nachgelagerte Produkte
Vorgelagerte Rohstoffe
Nachgelagerte Produkte
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