Zirconium(4+) tetrakis(2-ethylhexanoate)
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2233-42-3CCCCC(CC)C(=O)[O-].CCCCC(CC)C(=O)[O-].CCCCC(CC)C(=O)[O-].CCCCC(CC)C(=O)[O-].[Zr+4]OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J2233-42-3DTXSID80944978Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
VerwendenZirconium(IV) 2-ethylhexanoate is utilized as a metal organic precursor of zirconium for solution deposition and chemical vapor deposition of thin films containing zirconium especially zirconium oxide thin films. It is also used as yttria stabilized zirconia films for solid oxide fuel cells.
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