Acetic acid, 1,1',1'',1'''-tetraanhydride with silicic acid (H4SiO4)
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562-90-3CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=OYZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N562-90-3DTXSID60889353Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
VerwendenSilicon tetraacetate is used in the preparation of silicon dioxide thin films by a direct photochemical vapor deposition method. It serves as a precursor to prepare silicon complexes with monofunctional bidentate Schiff bases. It is also used as an alternative to silicon hydride and alkoxide for low-temperature silicon dioxide production. Further, it reacts with ethanol in the absence of water to get silica gel and ethyl acetate. In addition, it is employed as a sol-gel precursor.
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