94442-22-5Cc1ccc[cH-]1.[CH3-].[CH3-].[CH3-].[Pt+4]FSKLOGLSYZIRMP-UHFFFAOYSA-N94442-22-5Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
Verwenden(Trimethyl)methylcyclopentadienylplatinum(IV) was used for the deposition of ultrathin metallic layers of platinum by electron beam induced deposition, atomic sputtering.These deposits find application in microelectronics, catalysis, photonics and chemical sensing.
Keine Reaktionsaufzeichnungen unter den aktuellen Filterkriterien.
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