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窒化ガリウム

Gallium nitride (GaN)

HCID 117559
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基本情報名称と識別子物性安全と法規制化学と産業関連反応化合物ノート
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基本情報

CAS
25617-97-4
標準SMILES
[N]#[Ga]
InChIKey
JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N
分子式
GaN
平均分子量
83.73 g/mol
単同位体質量
82.9286476

名称と識別子

優先名称
Gallium nitride (GaN)
IUPAC
Nitrilogallane
現地名
窒化ガリウム
英語名
GALLIUM NITRIDE
分子式
GaN
分子量
83.73

名称と別名

ニトリロガリウム窒化ガリウム(III), 99.99% (metals basis)窒化ガリウム(III)窒化ガリウムNitrilogalliumGALLIUM NITRIDEgalliummononitrideazanylidynegallanegalliumnitride(gan)99.99%(metalsbasis)GALLIUM(III) NITRIDEGallium nitride/ 99.9%
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GALLIUM NITRIDE POWDERGallium nitride/ 99.99%

データベース識別子

CAS
25617-97-4
PubChem CID
117559
DTXSID
DTXSID2067111
EC Number
247-129-0
Nikkaji
J95.944H

物性

物理化学的性質

融点
800 °C · 800 °C (lit.)
沸点
600 ℃ · decomposes at >600℃ [KIR78]
比重(密度)
6.1 · 6.1
屈折率
2.7 · 2.70 (27℃)
外見
粉
色
黄色
水溶解度
熱濃硫酸、熱濃硫酸にやや溶ける。水酸化ナトリウム。水および希酸に不溶。
Merck
14 · 14,4351
安定性
乾燥アルゴン下で保管してください。水、湿気に弱い。強力な酸化剤とは相容れない。
InChI
InChI=1S/Ga.N
InChIKey
JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N
SMILES
N#[Ga]
CAS データベース
25617 · 25617-97-4(CAS DataBase Reference)
EPAの化学物質情報
Gallium nitride (GaN) (25617-97-4)

化学的性質

化学的特性yellow powder

安全と法規制

安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート(SDS)、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。

安全データ

F
10-21
wgk
3
tsca
TSCA listed
rtecs
LW9640000
毒性
mouse,LDLo,intraperitoneal,5gm/kg (5000mg/kg),Gigiena Truda i Professional'nye Zabolevaniya. Labor Hygiene and Occupational Diseases. Vol. 9(6), Pg. 45, 1965.
safety_code
22-24/25
Hazard Classifications
Skin Sens. 1
ストレージクラス
11 - Combustible Solids

化学と産業

応用分野 · 3 件

解説窒化ガリウム,暗灰色の固体.GaとNとを反応させて形成した半導体材料で,周期表13~15族半導体に分類される.エネルギーギャップは3.4 eV で,比誘電率9.5の直接遷移半導体である.エネルギーギャップが広いことから,ワイドギャップ系半導体ともいわれる.大きなイオン性をもつため,安定(α)相は六方晶系ウルツ鉱型構造をとり,準安定(β)相として立方晶系せん亜鉛鉱型構造をとる.青色発光素子材料として注目を集めている.森北出版「化学辞典(第2版)

使用Gallium nitride (GaN) is a wide band gap semiconducting material, which can be used in the development of a variety of electronic devices, such as light emitting diodes (LEDs), and field effect transistors (FETs). It can also be used as a transition metal dopant for spintronics-based applications.

使用用途窒化ガリウムは従来、青色LEDやの材料として広く用いられてきました。現在は、バンドギャップが3.4と高いため、Siのバンドギャップ1.1に対して、ワイドギャップ半導体と呼ばれています。 窒化ガリウムは、飽和ドリフト速度が高いことや破壊電界強度が高いことが特徴です。高耐圧化や低損失化、スイッチングスピードの高速化を可能とします。シリコン製のダイオードやトランジスタを窒化ガリウム機器へと置き換えることで、電力損失を小さくし、発熱量を減少させ、機器そのものを小型化することが可能です。 また、5G通信基地局用途として、GaN HEMT (高電子移動度トランジスタ) の需要も高まっています。

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