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3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-ヘニコサフルオロ-1-ドデセン

(Perfluorodecyl)ethylene

HCID 121692
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基本情報名称と識別子物性安全と法規制化学と産業関連反応化合物ノート
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基本情報

CAS
30389-25-4
標準SMILES
C=CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F
InChIKey
UCHSAVGOZUCXHC-UHFFFAOYSA-N
分子式
C12H3F21
平均分子量
546.114 g/mol
単同位体質量
545.98994272

名称と識別子

優先名称
(Perfluorodecyl)ethylene
IUPAC
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-Henicosafluorododec-1-ene
現地名
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-ヘニコサフルオロ-1-ドデセン
英語名
(Perfluorodecyl)ethylene
分子式
C12H3F21
分子量
546.12

名称と別名

3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-ヘニコサフルオロ-1-ドデセン1H,1H,2H-パーフルオロドデカ-1-エン1H,1H,2H-パーフルオロ-1-ドデセンヘンイコサフルオロ-1-ドデセン1H,1H,2H-パーフルオロ-1-ドデセン, 97%3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-ヘンイコサフルオロドデカ-1-エンuoro-1-dodecenePerfluorododecene(PERFLUORODECYL)ETHYLENE(N-Perfluorodecyl)ethyleneHeneicosafluoro-1-dodecene1H,1H,2H-PERFLUORO-1-DODECENE
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1H,1H,2H-PERFLUORODODEC-1-ENEPFAE (Perfluoroalkylethylene)1H,1H,2H-Perfluorododec-1-ene97%1H,1H,2H-Perfluorododec-1-ene 97%

データベース識別子

CAS
30389-25-4
PubChem CID
121692
DTXSID
DTXSID60184471
EC Number
250-173-3
Nikkaji
J28.316I

物性

物理化学的性質

沸点
71 · 71-72°C 14mm
比重(密度)
1 · 1,711 g/cm3
屈折率
1.303 · 1.303
闪点
71 · 71-72°C/14mm
外見
low melting solid
比重
1.711 · 1.711
BRN
2493721 · 2493721
Henry's Law Constant
3.3 · 3.3×10-8 mol/(m3Pa) at 25℃, Goss et al. (2006)
InChI
InChI=1S/C12H3F21/c1-2-3(13,14)4(15,16)5(17,18)6(19,20)7(21,22)8(23,24)9(25,26)10(27,28)11(29,30)12(31,32)33/h2H,1H2
InChIKey
UCHSAVGOZUCXHC-UHFFFAOYSA-N
SMILES
C=CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F
CAS データベース
30389 · 30389-25-4(CAS DataBase Reference)
NISTの化学物質情報
1 h,1h,2h-Perfluoro-1-dodecene · 1h,1h,2h-Perfluoro-1-dodecene(30389-25-4)
EPAの化学物質情報
(Perfluorodecyl)ethylene (30389-25-4)

安全と法規制

安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート(SDS)、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。

安全データ

hs_code
2903590090
risk_code
36/37/38
hazard_code
Xi
safety_code
26-36
hazard_class
IRRITANT

化学と産業

応用分野

使用1H,1H,2H-Perfluoro-1-dodecene is used in preparation method of coating for surface modification of photoresist.

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