基本情報
- CAS
3555-47-3- 標準SMILES
C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C- InChIKey
VNRWTCZXQWOWIG-UHFFFAOYSA-N- 分子式
- C12H36O4Si5
- 平均分子量
- 384.84 g/mol
- 単同位体質量
- 384.1459923
名称と識別子
- 優先名称
- Tetrakis(trimethylsiloxy)silane
- IUPAC
- tetrakis(trimethylsilyl) silicate
- 現地名
- 1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3,3-ビス(トリメチルシロキシ)ペンタントリシロキサン
- 英語名
- Tetrakis(trimethylsiloxy)silane
- 分子式
- C12H36O4Si5
- 分子量
- 384.84
名称と別名
3555-47-3TETRAKIS(TRIMETHYLSILOXY)SILANEtetrakis(trimethylsilyl) silicate55L9T9A11IUNII-55L9T9A11ITrisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis(trimethylsiloxy)-EINECS 222-613-4DTXSID9042463Trisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis((trimethylsilyl)oxy)-Trisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]-SILICIC ACID, TETRAKIS(TRIMETHYLSILYL) ESTERSILICIC ACID (H4SIO4), TETRAKIS(TRIMETHYLSILYL) ESTER
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1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3,3-ビス(トリメチルシリルオキシ)ペンタントリシロキサン1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3,3-ビス[(トリメチルシリル)オキシ]ペンタントリシロキサン1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3,3-ビス(トリメチルシロキシ)ペンタントリシロキサンテトラキス(トリメチルシリルオキシ)シランオルトけい酸テトラキス(トリメチルシリル)1，1，1，5，5，5-ヘキサメチル-3，3-ビス［（トリメチルシリル）オキシ］トリシロキサンテトラキス(トリメチルシロキシ)シランTETRAKIS(TRIMETHYLSILYLOXY)SILANETrisiloxane,1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]-DK275DK751loxy)DKFELEX0194
物性
構造計算による物性
- 極性表面積
- 36.9 Ų
- 水素結合供与体数
- 0
- 水素結合受容体数
- 4
- 回転可能結合数
- 8
- 重原子数
- 21
- 形式電荷
- 0
- 複雑度
- 266
実験および物理化学的性質
Chemical ClassesMetals -> Metalloid Compounds (Silicon)
SpringerMaterials PropertiesBoiling point
Physical DescriptionColorless liquid; [Aldrich MSDS]
物理化学的性質
- 融点
- -60 °C · -60 °C
- 沸点
- 103 · 103-106 °C/2 mmHg (lit.)
- 比重(密度)
- 0.87 g/mL · 0.87 g/mL at 25 °C (lit.)
- 蒸気圧
- 27.4 hPa · 27.4hPa at 20℃
- 屈折率
- 20 · n20/D 1.389(lit.)
- 闪点
- 169 °F · 169 °F
- 貯蔵温度
- Inert atmosphere,Room Temperature
- 外見
- 液体
- 比重
- 0.868 · 0.868
- 色
- Colorless to Almost colorless
- 水溶解度
- 150.7 ng/L · 150.7ng/L at 23℃
- BRN
- 1793898 · 1793898
- Henry's Law Constant
- 2.6 · 2.6×10-8 mol/(m3Pa) at 25℃, Ebert et al. (2023)
- InChI
- 1S/C12H36O4Si5/c1-17(2,3)13-21(14-18(4,5)6,15-19(7,8)9)16-20(10,11)12/h1-12H3
安全と法規制
安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート（SDS）、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。
GHS分類
GHS Classification
This chemical does not meet GHS hazard criteria for 15.9% (63 of 397) of reports.
Warning
H315 (51.6%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]
P261, P264, P264+P265, P271, P273, P280, P302+P352, P304+P340, P305+P351+P338, P319, P321, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P403+P233, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)
Aggregated GHS information provided per 397 reports by companies from 6 notifications to the ECHA C&L Inventory. Each notification may be associated with multiple companies.
危険有害性情報
Regulatory Information
Chemical: Trisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]-
Hazard Traits - Bioaccumulation; Environmental Persistence
REACH registered substance: 1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]trisiloxane (EC: 222-613-4)
Trisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis(trimethylsilyl)oxy-: Does not have an individual approval but may be used as a component in a product covered by a group standard. It is not approved for use as a chemical in its own right.
Other Safety InformationIMAP assessments - Trisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]-: Human health tier I assessment
Hazards SummaryA skin and strong eye irritant; [Aldrich MSDS] See Octamethyltrisiloxane. See Dimethoxydimethylsilane.
Hazard Classes and CategoriesSkin Irrit. 2 (51.6%)
安全データ
- wgk
- 3
- tsca
- TSCA listed
- ridadr
- NA1993
- hs_code
- 29319090
化学と産業
用途と製造
Household ProductsInformation on 2 consumer products that contain Tetrakis(Trimethylsiloxy) silane in the following categories is provided:
General Manufacturing InformationTrisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]-: ACTIVE
応用分野
使用Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS) is an organosilicon compound used as a precursor to prepare nanostructured organosilicon polymer films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at atmospheric pressure. TTMS along with cyclohexane can also be used to synthesize low dielectric constant SiCOH films by PECVD method.
上流・下流製品情報
上流原料
関連反応
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