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基本情報
- CAS
18166-43-3- 標準SMILES
CC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C- InChIKey
HLDBBQREZCVBMA-UHFFFAOYSA-N- 分子式
- C12H28O4Si
- 平均分子量
- 264.438 g/mol
- 単同位体質量
- 264.17568591
名称と識別子
- 優先名称
- Tris(tert-butoxy)silanol
- IUPAC
- Tri-tert-butyl hydrogen orthosilicate
- 現地名
- TRI-T-BUTOXYSILANOL (99.999%-SI) PURATREM 14-7015 CONTAINED IN 50 ML SWAGELOK® CYLINDER (96-1077) FOR CVD/ALD
- 英語名
- Tri-t-butoxysilanol
- 分子式
- C12H28O4Si
- 分子量
- 264.43
名称と別名
TRI-T-BUTOXYSILANOL (99.999%-SI) PURATREM 14-7015 CONTAINED IN 50 ML SWAGELOK® CYLINDER (96-1077) FOR CVD/ALDトリス(TERT-ブトキシ)シラノールトリ-t-ブトキシシラノール (99.9+%-Si)トリ-t-ブトキシシラノール (99.999%-Si) PURATREMトリ-t-ブトキシシラノール (99.999%-Si) PURATREM 14-7015 contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1077) for CVD/ALDNSC 243646Tri-t-butoxysilanolTris(tert-butoxy)siLTRIS(T-BUTOXY)SILANOLTri-tert-butoxysilanolTri-tert-butyl silicateTRIS(TERT-BUTOXY)SILANOL
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Tri(tert-butyloxy)silanolTri-t-butoxysilanol (99.9+%-Si)Tris(tert-butoxy)silanol
データベース識別子
- CAS
18166-43-3- PubChem CID
- 316157
- DTXSID
DTXSID30311474- EC Number
- 801-265-2
- Nikkaji
- J1.241.314I
物性
物理化学的性質
- 融点
- 63 · 63-65 °C(lit.)
- 沸点
- 205 · 205-210 °C(lit.)
- 比重(密度)
- 0 · 0,92 g/cm3
- 闪点
- 65 °C · >65°C
- 貯蔵温度
- Inert atmosphere,Room Temperature
- 外見
- 個体
- 酸解離定数(Pka)
- 11.78 · 11.78±0.53(Predicted)
- InChI
- 1S/C12H28O4Si/c1-10(2,3)14-17(13,15-11(4,5)6)16-12(7,8)9/h13H,1-9H3
- InChIKey
- HLDBBQREZCVBMA-UHFFFAOYSA-N
- SMILES
- CC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C
安全と法規制
安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート（SDS）、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。
安全データ
- wgk
- 3
- tsca
- No
- risk_code
- 36/37/38
- safety_code
- 22-24/25
- ストレージクラス
- 11 - Combustible Solids
化学と産業
応用分野
使用Tris(tert-alkoxy)silanols reacts with tetrakis(dimethylamino)-hafnium vapor(Hf(N(CH3)2)4) for vapor phase deposition of hafnium silicate glass films. Tris(tert-butoxy)silanol is used for atomic layer deposition (ALD) of highly conformal layers of amorphous silicon dioxide and aluminum oxide nanolaminates.
一般的な説明Tris(tert-butoxy)silanol can react with various metal alkyl amides to act as precursors for vapor deposition metal silicates. It also acts as a suitable precursor for deposition of silica.
上流・下流製品情報
上流原料
下流製品
サプライヤー
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化合物ノート
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