ジエチルシラン
(C2H5)2SiH2
基本情報
- CAS
542-91-6- 標準SMILES
CC[Si]CC- InChIKey
KZZFGAYUBYCTNX-UHFFFAOYSA-N- 分子式
- C4H10Si
- 平均分子量
- 86.21 g/mol
- 単同位体質量
- 86.05517685
名称と識別子
- 優先名称
- (C2H5)2SiH2
- 現地名
- ジエチルシラン
- 英語名
- Diethylsilane
- 分子式
- C4H12Si
- 分子量
- 88.22
名称と別名
(C2H5)2SiH2MFCD00039877Silane, diethyl-,Diethylsilane, 99%DIETHYLSILANE [MI]SCHEMBL138457KZZFGAYUBYCTNX-UHFFFAOYSA-NDiethylsilane, high purity min 99%AKOS015838482FD61147EN300-189888H57987
名称をさらに表示
ジエチルシランジエチルシラン, 98+%3-Silapentanediethyl-silanDiethylsilanediethylsiliconSilane, diethyl-Diethylsilane,97%Diethylsilane,98+%Diethylsilanealso high purityDiethylsilane,highpuritymin99%
S06510Q20054516
データベース識別子
- CAS
542-91-6- PubChem CID
- 6327565
- UNII
- T6EA843E4K
- Nikkaji
- J183.118F、J3.330.900G
物性
構造計算による物性
- 極性表面積
- 0 Ų
- 水素結合供与体数
- 0
- 水素結合受容体数
- 0
- 回転可能結合数
- 2
- 重原子数
- 5
- 形式電荷
- 0
- 複雑度
- 11.1
物理化学的性質
- 融点
- -132 °C · -132°C
- 沸点
- 56 °C · 56 °C (lit.)
- 比重(密度)
- 0.681 g/mL · 0.681 g/mL at 25 °C (lit.)
- 屈折率
- 20 · n 20/D 1.391 (lit.)
- 闪点
- -20 °C · -20 °C - closed cup
- 貯蔵温度
- 2 · under inert gas (nitrogen or Argon) at 2-8°C
- 溶解性
- 1 · テラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、ベンゼンと混和します。
- 外見
- liquid
- 比重
- 0.683 · 0.683
- Merck
- 14 · 14,3128
- BRN
- 1730902 · 1730902
- InChI
- 1S/C4H12Si/c1-3-5-4-2/h3-5H2,1-2H3
- InChIKey
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N
- SMILES
- CC[SiH2]CC
- CAS データベース
- 542 · 542-91-6(CAS DataBase Reference)
- EPAの化学物質情報
- Silane, diethyl- (542-91-6)
安全と法規制
安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート（SDS）、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。
安全データ
- wgk
- 1
- tsca
- TSCA listed
- ridadr
- UN 1993 3/PG 2
- risk_code
- 11
- hazard_code
- F
- safety_code
- 16-23-24/25
- hazard_class
- 3
- packing_group
- II
- Hazard Classifications
- Flam. Liq. 2
- ストレージクラス
- 3 - Flammable liquids
化学と産業
応用分野
解説C2H12Si(88.2)．(C2H5)2SiH2．ジクロロジエチルシランを還元すると得られる．無色の液体．融点－134.9 ℃，沸点56 ℃．d2040.684．n20D1.302．アルカリ性水溶液で分解し，水素を発生して相当するシラノールとなり，金属酸化物により容易に酸化されてシロキサンとなる．遷移金属触媒の存在下でオレフィンに付加する．[CAS 542-91-6]森北出版「化学辞典（第2版）
使用Diethylsilane is used as a precursor to prepare (3-allylsulfanyl-propyl)-diethyl-silane by using (Ph3P)3RhCl as reagent. It is also used in the chemical vapor deposition of SiO2 for microelectronics.
上流・下流製品情報
下流製品
関連反応
0 件
現在のフィルター条件では反応記録がありません。
化合物ノート
読み込み中…