トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート
Trifluoromethanesulfonic acid;triphenylsulfanium
基本情報
- CAS
66003-78-9- 標準SMILES
O=S(=O)(O)C(F)(F)F.c1ccc([S+](c2ccccc2)c2ccccc2)cc1- InChIKey
FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-N- 分子式
- C19H16F3O3S2+
- 平均分子量
- 413.5 g/mol
- 単同位体質量
- 413.0492962
名称と識別子
- 優先名称
- Trifluoromethanesulfonic acid;triphenylsulfanium
- IUPAC
- trifluoromethanesulfonic acid;triphenylsulfanium
- 現地名
- トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート
- 英語名
- Triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
- 分子式
- C19H15F3O3S2
- 分子量
- 412.44
名称と別名
SCHEMBL759937FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-NNS00134201trifluoromethanesulfonic acid;triphenylsulfaniumトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートトリフェニルスルホニウムトリフラート光酸発生剤TPS-TFTRIPHENYLSULFONIUM TRIFLATETRIPHENYLSULPHONIUM TRIFLATEphoto acid generatorphotoacid generator II
名称をさらに表示
Triphenylthiotrifluoromethane sulfonaterifluoromethanesulfonate,triphenylsulfaniumtrifluoromethanesulfonate,triphenylsulfaniumTriphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate(1:1)(TRIPHENYLSULFONIUM TRIFLUOROMETHANESULFONATE)
データベース識別子
- CAS
66003-78-9- PubChem CID
- 6455229
物性
構造計算による物性
- 極性表面積
- 63.8 Ų
- 水素結合供与体数
- 1
- 水素結合受容体数
- 6
- 回転可能結合数
- 3
- 重原子数
- 27
- 形式電荷
- 1
- 複雑度
- 360
実験および物理化学的性質
PFASPFAS -> PFAS identified in REACH Regulation EC No. 1272/2008
物理化学的性質
- 融点
- 133 · 133-137 °C(lit.)
- 貯蔵温度
- Store at room temperature, keep dry and cool
- InChI
- InChI=1S/C18H15S.CHF3O3S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;2-1(3,4)8(5,6)7/h1-15H;(H,5,6,7)/q+1;/p-1
- InChIKey
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M
- SMILES
- [S+](C1C=CC=CC=1)(C1C=CC=CC=1)C1C=CC=CC=1.C(F)(F)(F)S([O-])(=O)=O
- CAS データベース
- 66003 · 66003-78-9(CAS DataBase Reference)
- EPAの化学物質情報
- Sulfonium, triphenyl-, salt with trifluoromethanesulfonic acid (1:1) (66003-78-9)
安全と法規制
安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート（SDS）、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。
安全データ
- wgk
- 3
- tsca
- TSCA listed
- hs_code
- 2930909899
- risk_code
- 36/37/38
- hazard_code
- Xi
- hazard_note
- Irritant
- safety_code
- 26
- Hazard Classifications
- Eye Irrit. 2Skin Irrit. 2STOT SE 3
- ストレージクラス
- 11 - Combustible Solids
化学と産業
応用分野
解説光照射により酸を発生する化合物．リソグラフィーにおける化学増幅型レジストプロセスで使用され，ベース樹脂に混入される．露光で発生した酸は，酸触媒連鎖反応を起こし，レジスト感度が向上する．代表的な光酸発生剤としてオニウム塩(オニウム化合物の項を参照)が知られている．
用途有機合成原料。
使用TPS-tfs can be used as photoacid generators for the preparation of a bilayer system based nanoporous template which can be potentially used in sensor applications. It can also be used to form a blend with polyfluorene-co-benzothiadiazole for the fabrication of organic light emitting diodes (OLEDs).
一般的な説明Triphenylsulfonium triflate (TPS-tf) is a photo-acid generator which can be incorporated in conjugated polymers to enhance the luminescence and reduce the operating voltage. The performance efficiency of the fabricated device is increased by improving the mobility of charge carriers.
上流・下流製品情報
下流製品
関連反応
0 件
現在のフィルター条件では反応記録がありません。
化合物ノート
読み込み中…