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1624-01-7CN(C)[Si](N(C)C)(N(C)C)N(C)CSSCVMVQLICADPI-UHFFFAOYSA-N1624-01-7DTXSID5061829安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート(SDS)、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。
使用Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from tetrakis (dimethylamino) silane and ozone. Aminosilanes mere prepared by methods all essentially similar, and only the 15olation of tetrakis-(dimethylamino)-silane.
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