化工社化工社 化学情報印刷レポート · 研究参考用
トリメチルシリル酢酸
トリメチルシリル酢酸 · 2-(トリメチルシリル)酢酸 · (トリメチルシリル)酢酸 · DK685 · 2-trimethylsilylacetate · TriMethylsilyl)acetic ac · (trimethylsilyl)-aceticaci · (Trimethylsilyl)acetic acid

識別子と物理属性
| CAS No. | 2345-38-2 |
|---|---|
| 分子式 | C5H12O2Si |
| 平均分子量 | 132.23 g/mol |
| 単同位体質量 | 132.06065616 g/mol |
| SMILES | C[Si](C)(C)CC(=O)O |
| InChIKey | JDMMZVAKMAONFU-UHFFFAOYSA-N |
| PubChem CID | 75366 |
| EC No. | 219-067-4 |
| DTXSID | DTXSID6062335 |
| 現地名 | トリメチルシリル酢酸 |
化学・物理的性質
| 極性表面積 | 37.3 |
|---|---|
| 水素結合供与体数 | 1 |
| 水素結合受容体数 | 2 |
| 回転可能結合数 | 2 |
| 重原子数 | 8 |
| 形式電荷 | 0 |
| 複雑度 | 93.1 |
| 融点 | 39-42 °C(lit.) |
| 沸点 | 90-95°C 10mm |
| 密度 | 0.8830 (estimate) |
| 引火点 | 203 °F |
| 貯蔵条件 | Sealed in dry,Room Temperature |
| 溶解度 | ソルエーテル溶媒。 |
| 外観・状態 | 個体 |
| pKa(酸解離定数) | 5.23±0.10(Predicted) |
| BRN | 1679394 |
| InChI | 1S/C5H12O2Si/c1-8(2,3)4-5(6)7/h4H2,1-3H3,(H,6,7) |
| InChIKey | JDMMZVAKMAONFU-UHFFFAOYSA-N |
| SMILES | C[Si](C)(C)CC(O)=O |
| CAS データベース | 2345-38-2(CAS DataBase Reference) |
| NISTの化学物質情報 | Acetic acid, (trimethylsilyl)-(2345-38-2) |
| EPAの化学物質情報 | Acetic acid, (trimethylsilyl)- (2345-38-2) |
安全性と法規制
| GHS 分類 | WarningH315 (100%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]P261, P264, P264+P265, P271, P280, P302+P352, P304+P340, P305+P351+P338, P319, P321, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P403+P233, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)Aggregated GHS information provided per 45 reports by companies from 5 notifications to the ECHA C&L Inventory. Each notification may be associated with multiple companies. |
|---|---|
| Hazard Classes and Categories | Skin Irrit. 2 (100%) |
| F | 3-10-21 |
| 水環境危害等級(WGK) | 2 |
| TSCA 収載状態 | TSCA listed |
| RTECS 番号 | AK0843500 |
| 輸送番号(UN) | UN3261 |
| 危険文句(R) | 36/37/38 |
| 危険表示 | Xi |
| 安全措置(S) | 26-36 |
| 危険等級 | 8Eye Irrit. 2Skin Irrit. 2STOT SE 3 |
| 包装等級 | III |
| 貯蔵分類 | 11 - Combustible Solids |
用途
使用
(Trimethylsilyl)acetic acid may be used in chemical synthesis.
製法・合成法
製造方法
Obtained from the reaction of trimethylsilylmethylmagnesium chloride with carbon dioxide;3 can also be prepared by reaction of acetic acid with 2 equiv of lithium diisopropylamide, followed by chlorotrimethylsilane and hydrolysis.