基本情報
- CAS
23605-74-5- 標準SMILES
O=P(O)(O)CN(CCCCCCN(CP(=O)(O)O)CP(=O)(O)O)CP(=O)(O)O- InChIKey
KIDJHPQACZGFTI-UHFFFAOYSA-N- 分子式
- C10H28N2O12P4
- 平均分子量
- 492.23 g/mol
- 単同位体質量
- 492.05927232
名称と識別子
- 優先名称
- Hexanediaminetetra(methylenephosphonic acid)
- IUPAC
- [6-[bis(phosphonomethyl)amino]hexyl-(phosphonomethyl)amino]methylphosphonic acid
- 現地名
- [1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸
- 英語名
- HDTMPA
- 分子式
- C10H28N2O12P4
- 分子量
- 492.23
名称と別名
HDTMPDequest 2051Phosphonic acid, [1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis-8MUB34NVUIHexanediaminetetra(methylenephosphonic acid)EINECS 245-781-0BRN 2405158(1,6-Hexanediylbis(nitrilobis(methylene)))tetrakisphosphonic acidDequest 2051 deflocculant and sequestrantPhosphonic acid, (1,6-hexanediylbis(nitrilobis(methylene)))tetrakis-DTXSID9066916Phosphonic acid, P,P',P'',P'''-(1,6-hexanediylbis(nitrilobis(methylene)))tetrakis-
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N,N,N',N'-テトラキス(ホスホノメチル)ヘキサメチレンジアミンN,N,N',N'-テトラキス(ホスホノメチル)-1,6-ヘキサンジアミン[ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキス(メチレン)]テトラキスホスホン酸[ヘキサメチレンビス(ニトリロジメチレン)]テトラホスホン酸[1,6-ヘキサンジイルビスニトリロテトラ(メチレン)]テトラホスホン酸(1,6-ヘキサンジイルジニトリロ)テトラ(メチレン)テトラホスホン酸ヘキサメチレンビスニトリロテトラキスメチレンテトラキス(ホスホン酸)1,6-ヘキサンジイルビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸[ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)]テトラホスホン酸[(1,6-ヘキサンジイル)ビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸[1,6-ヘキサンジイルビス(ニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸
物性
構造計算による物性
- XLogP
- -9.7
- 極性表面積
- 237 Ų
- 水素結合供与体数
- 8
- 水素結合受容体数
- 14
- 回転可能結合数
- 15
- 重原子数
- 28
- 形式電荷
- 0
- 複雑度
- 547
物理化学的性質
- 融点
- 242 °C · 242 °C
- 沸点
- 546.04 °C · 546.04°C (rough estimate)
- 比重(密度)
- 1.4353 · 1.4353 (rough estimate)
- 屈折率
- 1.53 · 1.5300 (estimate)
- 酸解離定数(Pka)
- 0.7 · 0.70±0.10(Predicted)
- 安定性
- Hygroscopic
- InChI
- InChI=1S/C10H28N2O12P4/c13-25(14,15)7-11(8-26(16,17)18)5-3-1-2-4-6-12(9-27(19,20)21)10-28(22,23)24/h1-10H2,(H2,13,14,15)(H2,16,17,18)(H2,19,20,21)(H2,22,23,24)
- InChIKey
- KIDJHPQACZGFTI-UHFFFAOYSA-N
- SMILES
- N(CCCCCCN(CP(=O)(O)O)CP(=O)(O)O)(CP(=O)(O)O)CP(=O)(O)O
- EPAの化学物質情報
- 1 · Phosphonic acid, [1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis- (23605-74-5)
安全と法規制
安全情報は参考情報です。供給元の安全データシート（SDS）、適用法令、専門家による評価に代わるものではありません。
GHS分類
GHS Classification
Warning
H315 (100%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]
P264, P264+P265, P280, P302+P352, P305+P351+P338, P321, P332+P317, P337+P317, and P362+P364 (click each P-code to see the statement)
Aggregated GHS information provided per 107 reports by companies from 2 notifications to the ECHA C&L Inventory. Each notification may be associated with multiple companies.
危険有害性情報
Regulatory Information
Chemical: Phosphonic acid, [1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis-
Phosphonic acid, 1,6-hexanediylbisnitrilobis(methylene)tetrakis-: Does not have an individual approval but may be used as a component in a product covered by a group standard. It is not approved for use as a chemical in its own right.
Hazard Classes and CategoriesSkin Irrit. 2 (100%)
安全データ
- wgk
- 1
- tsca
- TSCA listed
- rtecs
- SZ8560500
- 毒性
- rabbit,LD50,skin,> 7940mg/kg (7940mg/kg),BEHAVIORAL: SOMNOLENCE (GENERAL DEPRESSED ACTIVITY)BEHAVIORAL: FOOD INTAKE (ANIMAL),Acute Toxicity Data. Journal of the American College of Toxicology, Part B. Vol. 1, Pg. 99, 1990.
化学と産業
用途と製造
General Manufacturing InformationPhosphonic acid, P,P',P'',P'''-[1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis-: ACTIVE
応用分野
使用Hexamethylenediamine-N,N,N'',N''-tetrakis(methylphosphonic Acid) is used in the acute toxicologic evaluation DEQUEST 2051. It is also used in tatar formation inhibition compositions. Hexamethylenediamine-N,N,N'',N''-tetrakis(methylphosphonic Acid) is used in the studies of calcium oxalate crystal growth inhibition by multidentated organic phosphonate.
上流・下流製品情報
上流原料
サプライヤー100 社
郑州阿尔法化工有限公司+86-18530059196 · [email protected]
上海阿拉丁生化科技股份有限公司400-6206333 13167063860 · [email protected]
湖北万得化工有限公司15377098680 15377098680 · [email protected]
南通润丰石油化工有限公司66017690 19952660367 · [email protected]
上海麦克林生化科技股份有限公司021-50706066 15221275939 · [email protected]
山东海舟生物工程有限公司
関連反応
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