ホームMCPワークベンチSkills
ホームワークベンチ通知マイページ
llms.txt · MCPガイドプライバシーポリシー · 利用規約 · サポートv1.8.0
  1. ホーム
  2. /反応

Triethylamine → 5-{2-Benzyloxy-4-[(E)-2-((S)-2-methanesulfonyl-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-3-yl)-vinyl]-phenyl}-1,1-dioxo-2-(2-trimethylsilanylethyl)-1,2,5-thiadiazolidin-3-one

HRID 660664
ノート
印刷プレビュー

反応式

HRID 660664 の反応式
[CH2:1]([O:8][C:9]1[CH:14]=[C:13](/[CH:15]=[CH:16]/[C@@H:17]2[CH2:26][C:25]3[C:20](=[CH:21][CH:22]=[CH:23][CH:24]=3)[CH2:19][NH:18]2)[CH:12]=[CH:11][C:10]=1[N:27]1[S:31](=[O:33])(=[O:32])[N:30]([CH2:34][CH2:35][Si:36]([CH3:39])([CH3:38])[CH3:37])[C:29](=[O:40])[CH2:28]1)[C:2]1[CH:7]=[CH:6][CH:5]=[CH:4][CH:3]=1.C(N(CC)CC)C.[CH3:48][S:49](Cl)(=[O:51])=[O:50]>C(Cl)Cl.CCOC(C)=O>[CH2:1]([O:8][C:9]1[CH:14]=[C:13](/[CH:15]=[CH:16]/[C@@H:17]2[CH2:26][C:25]3[C:20](=[CH:21][CH:22]=[CH:23][CH:24]=3)[CH2:19][N:18]2[S:49]([CH3:48])(=[O:51])=[O:50])[CH:12]=[CH:11][C:10]=1[N:27]1[S:31](=[O:32])(=[O:33])[N:30]([CH2:34][CH2:35][Si:36]([CH3:38])([CH3:37])[CH3:39])[C:29](=[O:40])[CH2:28]1)[C:2]1[CH:3]=[CH:4][CH:5]=[CH:6][CH:7]=1
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

6

反応物 3

HCID 8471TriethylamineHCID 31297Methanesulfonyl chlorideHCID 688396835-{2-Benzyloxy-4-[(E)-(S)-2-(1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-3-yl)-vinyl]-phenyl}-1,1-dioxo-2-(2-trimethylsilanylethyl)-1,2,5-thiadiazolidin-3-one

生成物 1

HCID 688389915-{2-Benzyloxy-4-[(E)-2-((S)-2-methanesulfonyl-1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-3-yl)-vinyl]-phenyl}-1,1-dioxo-2-(2-trimethylsilanylethyl)-1,2,5-thiadiazolidin-3-one

試薬・触媒・溶媒 2

HCID 6344Dichloromethane溶媒
HCID 8857Ethyl Acetate溶媒

実験手順

To a solution of 5-{2-benzyloxy-4-[(E)-(S)-2-(1,2,3,4-tetrahydroisoquinolin-3-yl)-vinyl]-phenyl}-1,1-dioxo-2-(2-trimethylsilanylethyl)-1,2,5-thiadiazolidin-3-one (0.12 g, 0.21 mmol) in CH2Cl2 (2 mL) is added triethylamine (0.15 mL, 1.0 mmol), followed by methanesulfonyl chloride (0.020 mL, 0.25 mmol). The mixture is stirred at RT for 1.5 h then is diluted with EtOAc (15 mL) and washed with 1N HCl (2×15 mL) and brine (1×15 mL). The organic layer is dried over Na2SO4, concentrated in vacuo and used directly in the next step without further purification.

後処理

  1. washwashed with 1N HCl (2×15 mL) and brine (1×15 mL)
  2. dry with materialThe organic layer is dried over Na2SO4
  3. concentrationconcentrated in vacuo
  4. customused directly in the next step without further purification

出典と根拠

ORDレコード
ord-4983a2b071304dcea47cc537c6e61e9f
出典データセット
uspto-grants-2011_12
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US08084448B2

反応ノート

読み込み中…

このページの内容参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート