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Methanesulfonyl chloride → HCID 86722364、化合物

HRID 718776
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反応式

HRID 718776 の反応式
[CH2:1]([O:8][C@@:9]1([C:36]([F:39])([F:38])[F:37])[CH2:33][C@H:13]2[CH2:14][CH2:15][CH2:16][C:17]3[C:18](=[CH:19][C:20]4[CH:21]=[N:22][N:23]([C:26]5[CH:31]=[CH:30][C:29]([F:32])=[CH:28][CH:27]=5)[C:24]=4[CH:25]=3)[C@:12]2([CH2:34][NH2:35])[CH2:11][CH2:10]1)[C:2]1[CH:7]=[CH:6][CH:5]=[CH:4][CH:3]=1.[CH3:40][S:41](Cl)(=[O:43])=[O:42]>C(Cl)Cl>[CH2:1]([O:8][C@@:9]1([C:36]([F:38])([F:39])[F:37])[CH2:33][C@H:13]2[CH2:14][CH2:15][CH2:16][C:17]3[C:18](=[CH:19][C:20]4[CH:21]=[N:22][N:23]([C:26]5[CH:27]=[CH:28][C:29]([F:32])=[CH:30][CH:31]=5)[C:24]=4[CH:25]=3)[C@:12]2([CH2:34][NH:35][S:41]([CH3:40])(=[O:43])=[O:42])[CH2:11][CH2:10]1)[C:2]1[CH:7]=[CH:6][CH:5]=[CH:4][CH:3]=1
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

4

反応物 2

HCID 31297Methanesulfonyl chlorideHCID 86722363HCID 86722363、化合物

生成物 1

HCID 86722364HCID 86722364、化合物

試薬・触媒・溶媒 1

HCID 6344Dichloromethane溶媒2 回

実験手順

Crude ((3R,4aR,12bS)-3-(benzyloxy)-9-(4-fluorophenyl)-3-(trifluoromethyl)-1,2,3,4,4a,5,6,7,9,12b-decahydrobenzo[6,7]cyclohepta[1,2-f]indazol-12b-yl)methan amine (34, R1=4-Fluorophenyl, R3=Trifluoromethyl, R4═H, R3=Benzyl) (0.135 mmol) was dissolved in DCM (3 mL) and methanesulfonyl chloride (0.026 mL, 0.334 mmol) and TEA (0.023 mL, 0.167 mmol) were added at rt. The reaction was stirred at rt for about 30 min, then diluted with DCM (10 mL) and concentrated with silica gel (3 g). The residue was purified on silica gel using a gradient of 0-10% EtOAc in DCM. Product fractions were combined and concentrated to yield N-(((3R,4aR,12bS)-3-(benzyloxy)-9-(4-fluorophenyl)-3-(trifluoromethyl)-1,2,3,4,4a,5,6,7,9,12b-decahydrobenzo[6,7]cyclohepta[1,2-f]indazol-12b-yl)methyl)methanesulfonamide (35, R1=4-Fluorophenyl, R3=Trifluoromethyl, R4=Methanesulfonyl, R3=Benzyl) (40 mg, 39%) as a clear glass; LC/MS, method 3, Rt=2.95 min, MS m/z 616 (M+H)+.) The residue was used in step #4 without further purification.

後処理

  1. concentrationconcentrated with silica gel (3 g)
  2. customThe residue was purified on silica gel using a gradient of 0-10% EtOAc in DCM
  3. concentrationconcentrated

出典と根拠

ORDレコード
ord-3b71d697b5864a8c991e8eb98ec9f108
出典データセット
uspto-grants-2015_11
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US09193744B2

反応ノート

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