Huagongshe화공사 화학 정보 인쇄 보고서 · 연구 참고용
트리메틸술폭소늄 클로라이드
트리메틸술폭소늄클로라이드 · TriMethyl sulfoxide chloride · trimethyloxosulfoniumchloride · NSC 221182 · oride, S-oxide · fonium, trimethyL · trimethyl-sulfoxoniuchloride · rimethylsulfoxonium chloride

식별자 및 물리적 특성
| CAS No. | 5034-06-0 |
|---|---|
| 분자식 | C3H9ClOS |
| 평균 분자량 | 128.62 g/mol |
| 단동위원소 질량 | 128.00626359 g/mol |
| SMILES | C[S+](C)(C)=O.[Cl-] |
| InChIKey | KQYWHJICYXXDSQ-UHFFFAOYSA-M |
| PubChem CID | 197819 |
| EC No. | 225-724-6 |
| DTXSID | DTXSID401370484 |
| 현지명 | 트리메틸술폭소늄 클로라이드 |
화학 및 물리적 성질
| 극성 표면적 | 18.1 |
|---|---|
| 수소 결합 공여자 수 | 0 |
| 수소 결합 수용자 수 | 2 |
| 회전 가능 결합 수 | 0 |
| 무거운 원자 수 | 6 |
| 형식 전하 | 0 |
| 복잡도 | 53 |
| 녹는점 | 226-229 °C (lit.) |
| 저장 조건 | Inert atmosphere,Room Temperature |
| 용해도 | DMSO(아껴서), 메탄올(약간, 초음파 처리), 물(아껴서)에 용해됨 |
| 물리적 상태 | 고체 |
| 색상 | 흰색에서 황백색까지 |
| BRN | 4549927 |
| 안정성 | 흡습성 |
| InChI | InChI=1S/C3H9OS.ClH/c1-5(2,3)4/h1-3H31H/q+1/p-1 |
| InChIKey | KQYWHJICYXXDSQ-UHFFFAOYSA-M |
| SMILES | [S+](=O)(C)(C)C.[Cl-] |
화학적 성질
White powder
안전 및 규제
| GHS 분류 | This chemical does not meet GHS hazard criteria for 12% (6 of 50) of reports.WarningH315 (88%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]P261, P264, P264+P265, P271, P280, P302+P352, P304+P340, P305+P351+P338, P319, P321, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P403+P233, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)Aggregated GHS information provided per 50 reports by companies from 8 notifications to the ECHA C&L Inventory. Each notification may be associated with multiple companies. |
|---|---|
| 규제 정보 | Status: Active Update: 11-10-2022 https://echa.europa.eu/registration-dossier/-/registered-dossier/23125 |
| Hazard Classes and Categories | Skin Irrit. 2 (88%) |
| 수질 위해 등급(WGK) | 3 |
| RTECS 번호 | WR8680000 |
| 관세 코드 | 29309099 |
| 위험 문구(R) | 36/37/38 |
| 위험 표시 | Xi |
| 안전 문구(S) | 26-36 |
| F 고인화성물질 | 3-10 |
| 위험 등급 | Eye Irrit. 2Skin Irrit. 2STOT SE 3 |
| 저장 분류 | 11 - Combustible Solids |
용도
용도
Reactant involved in:Polymerization of ylidesX-H insertionOne-pot sequential additionCyclopropanation of enones