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308103-54-0CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.[Ti+4]LNKYFCABELSPAN-UHFFFAOYSA-N308103-54-0안전 정보는 참고용이며, 공급업체의 물질안전보건자료(SDS), 관련 법규 및 전문가 평가를 대체하지 않습니다.
용도Precursor to titanium nitride (TiN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD).
일반 설명Atomic number of base material: 22 Titanium
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