데이터를 보충하는 중입니다. 잠시 후 페이지를 새로 고치면 최신 내용을 볼 수 있습니다
15112-89-7안전 정보는 참고용이며, 공급업체의 물질안전보건자료(SDS), 관련 법규 및 전문가 평가를 대체하지 않습니다.
용도Tris(dimethylamino)silane (TDMAS) is used as an organosilicon source for the deposition of Si oxynitride; carbonitride; nitride and oxide thin films. It is also used to form multicomponent silicon containing thin films. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range; thus making it a very good vapor deposition precursor.
일반 설명Please inquire for quantity, pricing, and packaging options.
불러오는 중…
불러오는 중…
현재 필터 조건에 해당하는 반응 기록이 없습니다.
불러오는 중…