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12018-36-9cub crystal(s); -150, +325 mesh; in the form of 99.99% and 99.5% pure material, used as a sputtering target to produce resistant semiconductor films and to fabricate interconnections and gate electrodes in IC devices [CER91] [LID94]
안전 정보는 참고용이며, 공급업체의 물질안전보건자료(SDS), 관련 법규 및 전문가 평가를 대체하지 않습니다.
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