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1624-01-7CN(C)[Si](N(C)C)(N(C)C)N(C)CSSCVMVQLICADPI-UHFFFAOYSA-N1624-01-7DTXSID5061829안전 정보는 참고용이며, 공급업체의 물질안전보건자료(SDS), 관련 법규 및 전문가 평가를 대체하지 않습니다.
용도Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from tetrakis (dimethylamino) silane and ozone. Aminosilanes mere prepared by methods all essentially similar, and only the 15olation of tetrakis-(dimethylamino)-silane.
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