Huagongshe화공사 화학 정보 인쇄 보고서 · 연구 참고용
Acetic acid, 2-(trimethylsilyl)-
DK685 · 2-trimethylsilylacetate · TriMethylsilyl)acetic ac · (trimethylsilyl)-aceticaci · (Trimethylsilyl)acetic acid · 2-(TRIMETHYLSILYL)ACETIC ACID · Acetic acid, 2-(trimethylsilyl)- · (Trimethylsilyl)acetic acid, 98+%
식별자 및 물리적 특성
| CAS No. | 2345-38-2 |
|---|---|
| 분자식 | C5H12O2Si |
| 평균 분자량 | 132.23 g/mol |
| 단동위원소 질량 | 132.06065616 g/mol |
| SMILES | C[Si](C)(C)CC(=O)O |
| InChIKey | JDMMZVAKMAONFU-UHFFFAOYSA-N |
| PubChem CID | 75366 |
| EC No. | 219-067-4 |
| DTXSID | DTXSID6062335 |
화학 및 물리적 성질
| 극성 표면적 | 37.3 |
|---|---|
| 수소 결합 공여자 수 | 1 |
| 수소 결합 수용자 수 | 2 |
| 회전 가능 결합 수 | 2 |
| 무거운 원자 수 | 8 |
| 형식 전하 | 0 |
| 복잡도 | 93.1 |
| 녹는점 | 39-42 °C(lit.) |
| 끓는 점 | 90-95°C 10mm |
| 밀도 | 0.8830 (estimate) |
| 인화점 | 203 °F |
| 저장 조건 | Sealed in dry,Room Temperature |
| 용해도 | 솔 에테르 용매. |
| 물리적 상태 | 고체 |
| pKa(산도 계수) | 5.23±0.10(Predicted) |
| BRN | 1679394 |
| InChI | 1S/C5H12O2Si/c1-8(2,3)4-5(6)7/h4H2,1-3H3,(H,6,7) |
| InChIKey | JDMMZVAKMAONFU-UHFFFAOYSA-N |
| SMILES | C[Si](C)(C)CC(O)=O |
| NIST | Acetic acid, (trimethylsilyl)-(2345-38-2) |
| EPA | Acetic acid, (trimethylsilyl)- (2345-38-2) |
안전 및 규제
| GHS 분류 | WarningH315 (100%): Causes skin irritation [Warning Skin corrosion/irritation]P261, P264, P264+P265, P271, P280, P302+P352, P304+P340, P305+P351+P338, P319, P321, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P403+P233, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)Aggregated GHS information provided per 45 reports by companies from 5 notifications to the ECHA C&L Inventory. Each notification may be associated with multiple companies. |
|---|---|
| Hazard Classes and Categories | Skin Irrit. 2 (100%) |
| 수질 위해 등급(WGK) | 2 |
| TSCA 등재 상태 | TSCA listed |
| RTECS 번호 | AK0843500 |
| 운송 번호(UN) | UN3261 |
| 위험 문구(R) | 36/37/38 |
| 위험 표시 | Xi |
| 안전 문구(S) | 26-36 |
| 포장분류 | III |
| 위험 등급 | 8Eye Irrit. 2Skin Irrit. 2STOT SE 3 |
| F 고인화성물질 | 3-10-21 |
| 저장 분류 | 11 - Combustible Solids |
용도
용도
(Trimethylsilyl)acetic acid may be used in chemical synthesis.
제조 및 합성 방법
제조 방법
Obtained from the reaction of trimethylsilylmethylmagnesium chloride with carbon dioxide;3 can also be prepared by reaction of acetic acid with 2 equiv of lithium diisopropylamide, followed by chlorotrimethylsilane and hydrolysis.