기본 정보
- 표준 SMILES
C[Si](C)(C)CC#N- InChIKey
WJKMUGYQMMXILX-UHFFFAOYSA-N- 분자식
- C5H11NSi
- 평균 분자량
- 113.23 g/mol
- 단동위원소 질량
- 113.06607588
이름 및 식별자
- 우선 이름
- (Trimethylsilyl)acetonitrile
- IUPAC
- 2-trimethylsilylacetonitrile
- 영어명
- (TRIMETHYLSILYL)ACETONITRILE
- 분자식
- C5H11NSi
- 분자량
- 113.23
이름 및 동의어
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데이터베이스 식별자
- CAS
18293-53-3- PubChem CID
- 87557
- DTXSID
DTXSID60171361- UNII
- 5XB7XHD8BU
- EC Number
- 242-169-5
- Nikkaji
- J266.101B
물성
구조 계산 물성
- 극성 표면적
- 23.8 Ų
- 수소 결합 공여자 수
- 0
- 수소 결합 수용자 수
- 1
- 회전 가능 결합 수
- 1
- 무거운 원자 수
- 7
- 형식 전하
- 0
- 복잡도
- 92.4
실험 및 물리화학적 성질
물리화학적 성질
- 끓는 점
- 65 · 65-70 °C20 mm Hg(lit.)
- 밀도
- 0.827 g/mL · 0.827 g/mL at 25 °C(lit.)
- 굴절률
- 20 · n20/D 1.420(lit.)
- 인화점
- 122 °F · 122 °F
- 저장 조건
- Sealed in dry,Room Temperature
- 용해도
- 가장 일반적인 유기 용매인 Sol입니다.
- 물리적 상태
- 액체
- 색상
- 무색투명~연노랑
- Specific Gravity
- 0.829 · 0.829
- BRN
- 1738845 · 1738845
- InChI
- InChI=1S/C5H11NSi/c1-7(2,3)5-4-6/h5H2,1-3H3
- InChIKey
- WJKMUGYQMMXILX-UHFFFAOYSA-N
- SMILES
- C(#N)C[Si](C)(C)C
안전 및 규제
GHS 분류
GHS Classification
Danger
H226 (100%): Flammable liquid and vapor [Warning Flammable liquids]
P210, P233, P240, P241, P242, P243, P261, P262, P264, P264+P265, P270, P271, P280, P301+P316, P302+P352, P303+P361+P353, P304+P340, P305+P351+P338, P316, P319, P321, P330, P332+P317, P337+P317, P361+P364, P362+P364, P370+P378, P403+P233, P403+P235, P405, and P501 (click each P-code to see the statement)
Aggregated GHS information provided per 45 reports by companies from 6 notifications to the ECHA C&L Inventory. Each notification may be associated with multiple companies.
유해성 정보
안전 데이터
- wgk
- 3
- tsca
- No
- ridadr
- UN 1993 3/PG 3
- HS 번호
- 29310099
- risk_code
- 10-23/24/25-36/37/38
- hazard_code
- T
- safety_code
- 26-36/37/39-45
- 포장분류
- III
- 위험 등급
- 3.2
- F 고인화성물질
- 21
- Hazard Classifications
- Acute Tox. 3 OralEye Irrit. 2Flam. Liq. 3Skin Irrit. 2STOT SE 3
- 스토리지 클래스
- 3 - Flammable liquids
화학 및 산업
응용 분야
용도(Trimethylsilyl)acetonitrile has been used in catalytic cyanomethylation of various carbonyl compounds in the presence of Lewis bases.
제조 방법
From chlorotrimethylsilane, zinc, and XCH2CN, (X = Cl, 61% yield; X = Br, 81% yield).
상·하류 제품 정보
하류 제품
공급사50 곳
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