Huagongshe화공사 화학 정보 인쇄 보고서 · 연구 참고용
Trichlorosilane → Phenyltrichlorosilane
참여 물질
| 역할 | 이름 | HCID | 투입량 |
|---|---|---|---|
| 반응물 | Trichlorosilane | HCID 24811 | — |
| 반응물 | Phenyltrimethylsilane | HCID 69849 | — |
| 생성물 | Phenyltrichlorosilane | HCID 7372 | — |
| 생성물 | Trimethylsilane | HCID 70435 | — |
반응 단계
Eaborn et al., J. Organometal. Chem. 4:489 (1965), describes a process where phenyltrimethylsilane and trichlorosilane are reacted at 500° C. in the gas phase to give phenyltrichlorosilane and trimethylsilane.
출처 및 근거
| DOI | 10.6084/m9.figshare.5104873.v1 |
|---|---|
| 특허 번호 | US05126472 |
| 출처 데이터셋 | uspto-grants-1992_06 |
| ORD ID | ord-397cbff1d1554549bf8f1536e696e65f |
| 출처 메모 | uspto-grants-1992_06 |