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3582-05-6O=S(=O)(OC(F)(F)F)C(F)(F)FGVZFDPPAJXHNGL-UHFFFAOYSA-N3582-05-6DTXSID40320072Sicherheitsangaben dienen nur zur Orientierung und ersetzen weder das Sicherheitsdatenblatt (SDB) des Lieferanten noch geltende Vorschriften oder eine fachliche Bewertung.
VerwendenTrifluoromethyl Triflate can be used for thermal atomic layer etching processes.
Keine Reaktionsaufzeichnungen unter den aktuellen Filterkriterien.
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