ホームMCPワークベンチSkills
ホームワークベンチ通知マイページ
llms.txt · MCPガイドプライバシーポリシー · 利用規約 · サポートv1.8.0
  1. ホーム
  2. /反応

Acetic Acid → HCID 53645761、化合物

HRID 2309066
ノート
印刷プレビュー

反応式

HRID 2309066 の反応式
C([S:4][CH2:5][CH:6]([CH2:17][C:18]([O:20]C)=[O:19])[C:7]([N:9]1[CH2:16][CH2:15][CH2:14][C@H:10]1[C:11]([OH:13])=[O:12])=[O:8])(=O)C.[H][H].C(O)(=O)C>CO.[OH-].[Na+]>[C:18]([CH2:17][CH:6]([CH2:5][SH:4])[C:7]([N:9]1[CH2:16][CH2:15][CH2:14][C@H:10]1[C:11]([OH:13])=[O:12])=[O:8])([OH:20])=[O:19]
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

6

反応物 3

HCID 176Acetic AcidHCID 541123831-[3-(Acetylthio)-2-(methoxycarbonylmethyl)propanoyl]-L-prolineHCID 178418361HCID 178418361、化合物

生成物 1

HCID 53645761HCID 53645761、化合物

試薬・触媒・溶媒 2

HCID 887Methanol溶媒HCID 14798Sodium Hydroxide溶媒

実験手順

To a solution of the product from Example 81 (3.0 g.) in methanol (60 ml.), 1N sodium hydroxide (60 ml.) is added. After 4 hours, the solution is applied to a column of Dowex 50 ion exchange resin in the hydrogen cycle, and the desired material is eluted with water to yield 2.3 g. of the named product Rf 0.2 (silica gel-benzene:acetic acid, 75:25).

後処理

  1. washthe desired material is eluted with water
  2. customto yield 2.3 g

出典と根拠

ORDレコード
ord-010af2fe034241aba9f66a6f575b2ba6
出典データセット
uspto-grants-1987_09
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US04692458

反応ノート

読み込み中…

このページの内容参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート