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Dimethylformamide → HCID 178504192、化合物

HRID 419726
ノート
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反応式

HRID 419726 の反応式
[Cl:1][C:2]1[N:7]=[CH:6][N:5]=[C:4]2[NH:8][N:9]=[C:10](I)[C:3]=12.[CH3:12][Si:13]([CH3:17])([CH3:16])[C:14]#[CH:15].CN(C=O)C.C1COCC1>C(Cl)Cl.[Cu]I.C1C=CC([P]([Pd]([P](C2C=CC=CC=2)(C2C=CC=CC=2)C2C=CC=CC=2)([P](C2C=CC=CC=2)(C2C=CC=CC=2)C2C=CC=CC=2)[P](C2C=CC=CC=2)(C2C=CC=CC=2)C2C=CC=CC=2)(C2C=CC=CC=2)C2C=CC=CC=2)=CC=1.CC(C)=O>[Cl:1][C:2]1[N:7]=[CH:6][N:5]=[C:4]2[NH:8][N:9]=[C:10]([C:15]#[C:14][Si:13]([CH3:17])([CH3:16])[CH3:12])[C:3]=12
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

9

反応物 4

HCID 6228DimethylformamideHCID 8028TetrahydrofuranHCID 66111TrimethylsilylacetyleneHCID 178478397HCID 178478397、化合物

生成物 1

HCID 178504192HCID 178504192、化合物収率 37.5%

試薬・触媒・溶媒 4

HCID 24350Copper(1+) iodide; Copper(I) iodide; Cuprous iodide; Cuprous iodide (CuI)
触媒
HCID 178418397HCID 178418397、化合物触媒
HCID 180Acetone溶媒
HCID 6344Dichloromethane溶媒

実験手順

Charge 4-chloro-3-iodo-1H-pyrazolo[3,4-d]pyrimidine (5.4 g, 1.0 eq), trimethyl silyl acetylene (11.347 g, 6.0 eq), CuI (1.833 g, 0.5 eq), TEA (2.68 mL, 1.0 eq), DMF (67.5 mL), and THF (202.5 mL) in a round bottom flask under argon atmosphere. Stir the reaction mass under argon atm for 30 min. Charge (PPh3)4Pd (2.225 g, 0.1 eq) and stir the reaction mass at 35° C. for 3 h. Monitor the reaction by TLC (10% acetone in DCM). Concentrate the reaction mass under reduced pressure. Charge ethyl acetate and wash with saturated sodium bicarbonate solution, water and saturated aq. sodium chloride. Dry the organic layer over anhydrous sodium sulfate and concentrate the organic layer under reduced pressure. Purify the compound by column chromatography (silica 100-200 mesh, DCM-Acetone) to give desired product (1.81 g, 36.14%).

後処理

  1. concentrationConcentrate the reaction mass under reduced pressure
  2. washCharge ethyl acetate and wash with saturated sodium bicarbonate solution, water and saturated aq. sodium chloride
  3. dry with materialDry the organic layer over anhydrous sodium sulfate
  4. concentrationconcentrate the organic layer under reduced pressure
  5. customPurify the compound by column chromatography (silica 100-200 mesh, DCM-Acetone)

出典と根拠

ORDレコード
ord-a65619109a904b64a102c571d1fccba0
出典データセット
uspto-grants-2012_01
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US08093383B2

反応ノート

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