ホームMCPワークベンチSkills
ホームワークベンチ通知マイページ
llms.txt · MCPガイドプライバシーポリシー · 利用規約 · サポートv1.8.0
  1. ホーム
  2. /反応

Tetrahydrofuran → HCID 59607837、化合物

HRID 70838
ノート
印刷プレビュー

反応式

HRID 70838 の反応式
[Cl:1][C:2]1[CH:3]=[C:4]([C:8]2[CH:13]=[CH:12][C:11]([CH2:14][C@@H:15]([NH:22][C:23](=[O:28])[C:24]([NH:26][NH2:27])=[O:25])[CH2:16][C:17]([O:19][CH2:20][CH3:21])=[O:18])=[CH:10][CH:9]=2)[CH:5]=[CH:6][CH:7]=1.C1C[O:32][CH2:31]C1>>[Cl:1][C:2]1[CH:3]=[C:4]([C:8]2[CH:13]=[CH:12][C:11]([CH2:14][C@@H:15]([NH:22][C:23]([C:24]3[O:25][C:31](=[O:32])[NH:27][N:26]=3)=[O:28])[CH2:16][C:17]([O:19][CH2:20][CH3:21])=[O:18])=[CH:10][CH:9]=2)[CH:5]=[CH:6][CH:7]=1
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

3

反応物 2

HCID 8028TetrahydrofuranHCID 59607746HCID 59607746、化合物

生成物 1

HCID 59607837HCID 59607837、化合物

実験手順

To a solution of (R)-ethyl 4-(3′-chlorobiphenyl-4-yl)-3-(2-hydrazinyl-2-oxoacetamido)butanoate, intermediate 12, (289 mg, 0.72 mmol) in THF (8.5 mL) is added CD (139 mg, 0.86 mmol) at room temperature. After stirring for 18 hour at room temperature, the reaction is quenched with H2O and 1M HCl, and the crude is diluted with EtOAc. The organic layer is washed with brine, dried over Na2SO4, filtered, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue is purified by RP-HPLC (SunFire C18, H2O (0.1% TFA)/CH3CN) and then lyophilized to give (R)-ethyl 4-(3′-chlorobiphenyl-4-yl)-3-(5-oxo-4,5-dihydro-1,3,4-oxadiazole-2-carboxamido)butanoate (100 mg). HPLC retention time=1.67 minutes (condition A); MS (m+1)=430.2; 1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ ppm 1.14 (t, J=7.1 Hz, 3 H) 2.52-2.70 (m, 2 H) 2.84 (dd, J=13.7, 8.4 Hz, 1 H) 2.90 (dd, J=13.7, 8.4 Hz, 1 H) 4.02 (q, J=7.1 Hz, 2 H) 4.42-4.58 (m, 1 H) 7.30 (d, J=8.1 Hz, 2 H) 7.37-7.43 (m, 1 H) 7.47 (t, J=7.8 Hz, 1 H) 7.57-7.66 (m, 3 H) 7.70 (t, J=1.9 Hz, 1 H) 8.98 (d, J=8.8 Hz, 1 H) 12.94 (s, 1 H).

後処理

  1. customthe reaction is quenched with H2O and 1M HCl
  2. additionthe crude is diluted with EtOAc
  3. washThe organic layer is washed with brine
  4. dry with materialdried over Na2SO4
  5. filtrationfiltered
  6. concentrationconcentrated under reduced pressure
  7. customThe obtained residue is purified by RP-HPLC (SunFire C18, H2O (0.1% TFA)/CH3CN)

出典と根拠

ORDレコード
ord-b5f05519e0274fababd212ed676063b6
出典データセット
uspto-grants-2014_09
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US08822534B2

反応ノート

読み込み中…

このページの内容参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート