HRID1788422

反应详情

EQUATION

反应方程式

REACTANTS

反应物

结构：O=C(N[C@@H](CC1CCCCC1)C(=O)O)OCC1c2ccccc2-c2ccccc21

HCID978326

Fmoc-Cha-OH

C24H27NO4

结构：O=C(NC(CC1CCCCC1)C(=O)O)c1ccc2c(c1)nc(-c1ccc3nc(-c4ccccc4)cnc3c1)n2C1CCCCC1

HCID5276167

未命名化合物

PRODUCTS

生成物

结构：O=C(NC(C(=O)O)C1CCCCC1)c1ccc2c(c1)nc(-c1ccc3nc(-c4ccccc4)cnc3c1)n2C1CCCCC1

HCID5276168

未命名化合物

收率 48%

PROCEDURE

实验过程

The general procedure described for Compound 242 was used with Fmoc-Cha Wang resin (250 mg, 0.4 mmol/g), producing 29 mg of the title compound (48% yield). MS: 586.27 (M−H+) HPLC Procedure A, retention time=14.94 min.

来源与证据

来源类型: Open Reaction Database
ORD 记录: ord-e3f42ab515274d48aa98ec9b3327df67
来源数据集: uspto-grants-2009_03
DOI: 10.6084/m9.figshare.5104873.v1
专利: US07511145B2
来源说明: uspto-grants-2009_03

反应 SMILES

C1(C[CH:8]([NH:12][C:13]([C:15]2[CH:45]=[CH:44][C:18]3[N:19]([CH:38]4[CH2:43][CH2:42][CH2:41][CH2:40][CH2:39]4)[C:20]([C:22]4[CH:23]=[C:24]5[C:29](=[CH:30][CH:31]=4)[N:28]=[C:27](C4C=CC=CC=4)[CH:26]=[N:25]5)=[N:21][C:17]=3[CH:16]=2)=[O:14])[C:9]([OH:11])=[O:10])CCCCC1.N(C(OCC1C2C(=CC=CC=2)C2C1=CC=CC=2)=O)[C@H](C(O)=O)C[CH:49]1[CH2:54][CH2:53][CH2:52][CH2:51][CH2:50]1>>[CH:15]1([CH:8]([NH:12][C:13]([C:15]2[CH:45]=[CH:44][C:18]3[N:19]([CH:38]4[CH2:39][CH2:40][CH2:41][CH2:42][CH2:43]4)[C:20]([C:22]4[CH:23]=[C:24]5[C:29](=[CH:30][CH:31]=4)[N:28]=[C:27]([C:54]4[CH:49]=[CH:50][CH:51]=[CH:52][CH:53]=4)[CH:26]=[N:25]5)=[N:21][C:17]=3[CH:16]=2)=[O:14])[C:9]([OH:11])=[O:10])[CH2:45][CH2:44][CH2:18][CH2:17][CH2:16]1