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Vinyltriethoxysilane → Bis(triethoxysilyl)ethane

HRID 1380161
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反応式

HRID 1380161 の反応式
[CH2:1]([O:3][SiH:4]([O:8][CH2:9][CH3:10])[O:5][CH2:6][CH3:7])[CH3:2].[SiH4].[CH:12]([Si:14]([O:21][CH2:22][CH3:23])([O:18][CH2:19][CH3:20])[O:15][CH2:16][CH3:17])=[CH2:13]>>[CH2:1]([O:3][Si:4]([O:8][CH2:9][CH3:10])([O:5][CH2:6][CH3:7])[CH2:13][CH2:12][Si:14]([O:15][CH2:16][CH3:17])([O:18][CH2:19][CH3:20])[O:21][CH2:22][CH3:23])[CH3:2].[CH2:1]([O:3][Si:4]([O:15][CH2:16][CH3:17])([O:8][CH2:9][CH3:10])[O:5][CH2:6][CH3:7])[CH3:2]
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

5

反応物 3

HCID 6516VinyltriethoxysilaneHCID 13830TriethoxysilaneHCID 23953Silane

生成物 2

HCID 6517Tetraethoxysilane収率 8%HCID 85266Bis(triethoxysilyl)ethane収率 13%

実験手順

The reaction was carried out as in Comparative Example 5, except that triethoxysilane was used as the starting silane. The reaction as monitored by GPC and was complete in two hours. Vinyltriethoxysilane (79%) was the major product formed and significant amounts of 1,2-bis(triethoxysilyl)ethane (13%) and tetraethoxysilane (8%) by-products, were also formed.

後処理

  1. customThe reaction
  2. customformed

出典と根拠

ORDレコード
ord-b889258576cb498ebab08629d176de5f
出典データセット
uspto-grants-1986_04
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US04579965

反応ノート

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