ホームMCPワークベンチSkills
ホームワークベンチ通知マイページ
llms.txt · MCPガイドプライバシーポリシー · 利用規約 · サポートv1.8.0
  1. ホーム
  2. /反応

Diisopropylethylamine → 4-[4-(6-Chloro-benzo[b]thiophene-2-sulfonyl)-2-oxo-piperazin-1-ylmethyl]-piperidine-1-carboxylic acid tert-butyl ester

HRID 1433087
ノート
印刷プレビュー

反応式

HRID 1433087 の反応式
[C:1]([O:5][C:6]([N:8]1[CH2:13][CH2:12][CH:11]([CH2:14][N:15]2[CH2:20][CH2:19][NH:18][CH2:17][C:16]2=[O:21])[CH2:10][CH2:9]1)=[O:7])([CH3:4])([CH3:3])[CH3:2].C(N(C(C)C)CC)(C)C.[Cl:31][C:32]1[CH:33]=[CH:34][C:35]2[CH:39]=[C:38]([S:40](Cl)(=[O:42])=[O:41])[S:37][C:36]=2[CH:44]=1>C(Cl)Cl.CC#N>[C:1]([O:5][C:6]([N:8]1[CH2:13][CH2:12][CH:11]([CH2:14][N:15]2[CH2:20][CH2:19][N:18]([S:40]([C:38]3[S:37][C:36]4[CH:44]=[C:32]([Cl:31])[CH:33]=[CH:34][C:35]=4[CH:39]=3)(=[O:42])=[O:41])[CH2:17][C:16]2=[O:21])[CH2:10][CH2:9]1)=[O:7])([CH3:4])([CH3:2])[CH3:3]
参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート

参加物

6

反応物 3

HCID 81531DiisopropylethylamineHCID 151586416-Chlorobenzo[b]thiophene-2-sulfonyl chlorideHCID 234475144-(2-Oxo-piperazin-1-ylmethyl)-piperidine-1-carboxylic acid tert-butyl ester

生成物 1

HCID 690254374-[4-(6-Chloro-benzo[b]thiophene-2-sulfonyl)-2-oxo-piperazin-1-ylmethyl]-piperidine-1-carboxylic acid tert-butyl ester

試薬・触媒・溶媒 2

HCID 6342
Acetonitrile
溶媒
HCID 6344Dichloromethane溶媒2 回

実験手順

To a solution of 4-(2-oxo-piperazin-1-ylmethyl)-piperidine-1-carboxylic acid tert-butyl ester (1.44 g, 4.8 mmol) in CH2Cl2 (75 mL) and MeCN (10 mL) is added diisopropylethylamine (1.3 mL, 4.8 mmol) followed by 6-chloro-benzo[b]thiophene-2-sulfonyl chloride (1.29 g, 4.8 mmol), and the reaction is allowed to stir 16 h. The reaction is diluted with CH2Cl2 and washed with 1N HCl and NaHCO3, dried and concentrated. The residue is purified by column chromatography (silica, 40% EtOAc/CH2Cl2) to provide 4-[4-(6-chloro-benzo[b]thiophene-2-sulfonyl)-2-oxo-piperazin-1-ylmethyl]-piperidine-1-carboxylic acid tert-butyl ester. 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.88-7.83 (m, 3H), 7.47 (dd, 1H), 4.1 (br, 2H), 3.86 (s, 2H), 3.46 (bs, 4H), 3.25 (br, 2H), 2.61 (t, 2H), 1.87-1.75 (m, 1H), 1.51 (d, 2H), 1.41 (s, 9H), 1.10 (ddd, 2H); MS (Ion spray) 528 (M+H)+.

後処理

  1. washwashed with 1N HCl and NaHCO3
  2. customdried
  3. concentrationconcentrated
  4. customThe residue is purified by column chromatography (silica, 40% EtOAc/CH2Cl2)

出典と根拠

ORDレコード
ord-8b06f50580be4d87aa60137e6f84df57
出典データセット
uspto-grants-2009_11
DOI
10.6084/m9.figshare.5104873.v1
特許番号
US07612075B2

反応ノート

読み込み中…

このページの内容参加物実験手順後処理出典と根拠反応ノート